UltraT Equipment


二十多年來,UltraT設備公司為半導體及微電子行業提供了廣泛的設備。1991年5月成立於美國加州矽谷的核心地帶,提供了一系列用於制造半導體器件 (包括晶片,光阻,LED和MEMS)手動和自動化的清潔、塗布及顯影設備。UltraT設備配置可滿足各種基材並做有效率的清潔,在半導體制造過程中極其重要。針對不同的顆粒和污染物,UltraT可提供不同的去除方法和技術,並使用高壓去離子水、超聲波或霧噴咀、刷洗或分配稀釋化學品來做最有效率的清潔。

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排序方式

UltraT - 光阻顯影機/蝕刻剝離機/光阻剝離機

光阻顯影機Model PRD408高效型號 PRD408 是用在晶圓和基板上自動光阻顯影的理想解決方案。這種非常可靠和具有成本效益的系統是利用一個專有快速沖洗的技術來有效的對晶圓做顯影。快速填充去離子..

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UltraT - 晶圓/基板/光罩清洗機

手動晶圓,基板,光罩清洗機Model SCSe124高效型 SCSe124 是晶圓和基板做亞微米清洗的理想解決方案。具有可靠和成本效益的系統及採用經過驗證的清洗技術。SCSe124 可以配置幾種不同的..

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